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上海昭沅提供石英基片、石英板、菲林板等光刻掩膜版，根据客户需求定制！
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掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过 程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版用于芯片 的批量生产，是下游生产流程衔接的关键部分，是芯片精度和质量的决定因素之一。
掩膜版根据基板材质的不同可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。石英掩膜版使用 石英玻璃作为基板材料，光学透过率高，热膨胀率低，相比苏打玻璃更为平整耐磨，使用寿命长，主要用于高 精度掩膜版；苏打掩膜版则使用苏打玻璃作为基板材料，光学透过率较高，热膨胀率相对高于石英玻璃，平整 度和耐磨性相对弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版；而凸版使用不饱和聚丁二烯树脂作为基板材料，主 要用于液晶显示器（LCD）制造过程中的定向材料移印；菲林使用 PET 作为基板材料，主要用于电路板掩膜。
2.5英寸-9英寸尺寸范围都可定制。
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版。
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